Kirjeldus
Volframsihtmärgid on lamedad kettakujulised esemed, mis on valmistatud peamiselt volframist, mis on väga kõrge sulamistemperatuuriga (umbes 3422 kraadi Celsiuse järgi) tihe kõva metall. Neid sihtmärke kasutatakse erinevates tööstusprotsessides, eriti õhukese kile sadestamise ja röntgenikiirguse tekitamise valdkonnas.
Volframsihtmärkide rakendused
Füüsiline aurustamine-sadestamine (PVD):Volframi sihtmärke kasutatakse tavaliselt PVD-protsessides, nagu pihustamine ja aurustamine. Pihustamisel pommitatakse sihtmärki suure energiaga ioonidega, mis löövad aatomeid või molekule sihtmärgist välja ja ladestavad need substraadile, moodustades õhukese kile. Volframi kõrge sulamistemperatuur ja kõvadus muudavad selle protsessi jaoks ideaalseks materjaliks.
Röntgenitorud:Röntgentorudes kasutatakse röntgenikiirguse tekitamiseks volframist sihtmärke. Kui kiired elektronid tabavad sihtmärki, aeglustuvad nad kiiresti, põhjustades röntgenikiirguse emissiooni. Volframi suur aatomarv suurendab röntgenikiirguse tootmise efektiivsust.
Elektronkiirkeevitus:Volframsihtmärke saab kasutada ka elektronkiirkeevitamisel, kus fokuseeritud elektronkiir sulatab materjali keevisliitekohas.
Ioonide implantatsioon:Ioonide implanteerimisel, kus ioonid kiirendatakse tahkeks aineks, et muuta selle omadusi, kasutatakse volframi sihtmärke nende võime tõttu taluda ioonide suurt energiat.
Volframsihtmärkide omadused
1. Kõrge sulamistemperatuur: Nagu mainitud, on volframil kõigi elementide kõrgeim sulamistemperatuur, mis on ülioluline PVD protsesside ja röntgenikiirguse tekitamise käigus tekkivate kõrgete temperatuuride talumiseks.
2. Suur tihedus: volframil on suur tihedus, mis võib olla kasulik rakendustes, kus mass ja inerts on olulised tegurid.
3. Hea soojusjuhtivus: volframil on hea soojusjuhtivus, mis aitab kasutamise ajal soojust hajutada.
4. Kulumiskindlus: volframi kõvadus aitab kaasa selle kulumiskindlusele, mis on oluline sihtmärgi pikaealisuse jaoks.
Volframsihtmärkide tootmine
- Pulbermetallurgia: volframipulber tihendatakse ja seejärel paagutatakse, et moodustada sihtmärk. Seda meetodit kasutatakse sageli keerukate kujundite loomiseks või kõrge puhtusastmega sihtmärkide jaoks.
- Valamine: volframit saab valada soovitud kuju, kuigi see meetod võib põhjustada lisandeid ja seda piirab võimalus valada keerulisi kujundeid.
- Töötlemine: tahke volframist toorikud saab töödelda soovitud kuju ja suurusega spetsiaalsete lõiketööriistade abil, mis taluvad volframi kõvadust.
Volframsihtmärkide spetsifikatsioon
|
Hinne |
W1,W2 |
|
Puhtus |
95% või suurem |
|
Läbimõõt |
0,5 mm-30 mm |
|
Paksus |
1-10mm |
|
Sulamistemperatuur |
3410 kraadi |
|
Tihedus |
18,75g/cm3 |
|
Pind |
Poleeritud, viimistletud treimine, maandus |
|
Tarneaeg |
25 päeva |
|
Standardne |
ASTM, GB |
Kuum tags: volframi sihtmärgid, Hiina volframi sihtmärkide tarnijad, tehas
