Metalli imavad sihtmärgid

  • Kohandatav 4N süsiniku pihustamise sihtmärk
    Meie kõrge -puhtusastmega 4N süsiniku pihustamise sihtmärgid on valmistatud 99,99% puhtast süsinikmaterjalist, millel on madal lisandite tase ja mis muudavad need ideaalseks kasutamiseks...
    Rohkem
  • Kohandatud booripihustamise sihtmärgid
    Pakume kõrge-puhtusega, tihedaid boori sihtmärke, mis sobivad ideaalselt pooljuht- ja katmisprotsessideks. Toetame tehnilistel joonistel põhinevat kohandatud valmistamist, kontrollides rangelt...
    Rohkem
  • Kohandatud 3N5 ümmargune volframsihtmärk
    Pakume eritellimusel valmistatud -ringikujulisi volframist sihtmärke puhtusega 3N5 (99,95%). Pulbermetallurgiat kasutades on neil ühtlane mikrostruktuur, suur tihedus ning need ei sisalda poorsust...
    Rohkem
  • Kohandatud kõrge puhtusastmega Hf pihustamise sihtmärk
    Pakume eritellimusel valmistatud-kõrge-puhtusega hafniumi pihustusobjekte, mille puhtus on üle 99,9%, millel on ühtlane tihedus ja peen mikrostruktuur. Spetsiaalselt pooljuhtkiipide, optiliste...
    Rohkem
  • Kohandatud 3N5 Hafnium Rod
    3N5 kõrge-puhtusega hafniumvardad, 99,95% puhtus, tuuma-kvaliteediga! Vastupidav üli-kõrgetele temperatuuridele ja tugevale korrosioonile, esimene valik tuumareaktorite, kosmosemootorite ja...
    Rohkem
  • Kohandatud 3N tina sihtmärk
    Kõrge-puhtusastmega 3N tinapritsimise sihtmärk + kohandatud vasest tagaplaat kahekordistab pritsimise efektiivsust! Õmblusteta liimimine hoiab ära eraldumise, mille tulemuseks on ühtlased,...
    Rohkem
  • Kohandatav 3N5 ristkülikukujuline hafniumi sihtmärk
    3N5 kõrge -puhtusastmega hafniumi sihtmärk, 99,95% puhtus, kohandatud ristkülikukujulised mõõtmed mikromeetri täpsusega! Esimene valik pooljuhtkatteks ja optiliseks katmiseks, mis loob tiheda,...
    Rohkem
  • 4N Mg Magneesiumi pihustussihtmärk
    4N magneesiumi pihustusobjektid on kõrge puhtusastmega metallist pihustusmaterjalid, mille puhtus on 99,99% või suurem. Neil on peened terad ja ühtlane koostis, mis muudab need sobivaks...
    Rohkem
  • 99,95% Hf Hafnium Sputtering Target
    99,95% kõrge-puhtusastmega hafniumi pihustussihtmärk, lennundus--klassi Hf metallist sihtmärk, kohandatud suurusega, ühendatud vasest alusplaat, kasutatakse pooljuhtide õhukeste kilede, optiliste...
    Rohkem
  • Tsirkooniumtoru sihtmärk
    Tsirkooniumtoru sihtmärgid on õhukese -seinaga, kõrge-puhtusega tsirkooniumtorud, mis on korrosiooni-- ja kõrge-temperatuurikindlad, tekitades pritsimise ajal tiheda ühtlase kile. Neid kasutatakse...
    Rohkem
  • Berülliumi pritsiv sihtmärk
    Berüllium on terashall metall, mis on toatemperatuuril üsna habras ja mille keemilised omadused sarnanevad mõneti alumiiniumi omadega.
    Rohkem
  • Kroomi (Cr) pihustamise sihtmärk
    Kroomi pihustusobjektil on samad omadused, mis metallkroomil (Cr), kroom on keemiline element sümboliga Cr ja aatomnumbriga 24, see on terashall, läikiv, kõva ja rabe siirdemetall. Kroom on ka...
    Rohkem

Oleme professionaalsed metallipurustustarnijad Hiinas, kes on spetsialiseerunud kvaliteetse kohandatud teenuse pakkumisele. Ootame teid soojalt ostma siit laost soodushinnaga metallipurustusobjekte ja hankima meie tehasest tasuta proovi. Hinnakonsultatsiooni saamiseks võtke meiega ühendust.