PVD kattematerjal

• Tsinkoksiidi (ZnO) pihustamise sihtmärk

  Tsinkoksiidi (ZnO) pihustamise sihtmärk, mida kasutatakse magnetroni pihustamise füüsiliseks aurustamiseks. Saadaval on erinevad läbimõõdud, paksused ja puhtusastmed, mis sobivad kõigile...

  Rohkem
• Magneesiumfluoriid (MgF2) pihustamise sihtmärk

  Magneesiumfluoriid on valge kristalne sool ja on läbipaistev paljudel lainepikkustel ning seda kasutatakse kaubanduslikult optikas, mida kasutatakse ka kosmoseteleskoopides. Looduses esineb seda...

  Rohkem
• Liitiumkoobaltoksiidi (LiCoO2) pihustamise sihtmärk

  Liitiumkoobaltoksiid on kihiline struktuur, mis tagab liitiumioonide migratsiooni jaoks kahemõõtmelise tunneli. LiCoO2 pihustussihtmärk on suurepärane materjal akude valmistamiseks, kuna sellel on...

  Rohkem
• Molübdeenoksiidi (MoO3) pihustamise sihtmärk

  Molübdeenoksiidi pihustamise sihtmärki saab kasutada pooljuhtide, keemilise aurustamise-sadestamise (CVD), füüsikalise aurustamise-sadestamise (PVD) kuvari ja optiliste rakenduste jaoks. Oleme...

  Rohkem
• Magneesiumoksiidi (MgO) pihustamise sihtmärk

  Magneesiumoksiid pihustusobjektides kajastub peamiselt kiires kile moodustamises, rakenduses mikroelektroonikas ja fotogalvaanilises tööstuses, spetsiifilistes ettevalmistusprotsessides ja...

  Rohkem
• Molübdeendisulfiidi (MoS2) pihustamise sihtmärk

  MoSi2 on tetragonaalne struktuur. See on Mo-Si kahekomponentsete sulamite süsteemis suurima ränisisaldusega vahefaas. See on Daltoni intermetalliline ühend, millel on fikseeritud koostis, hall ja...

  Rohkem
• Nioobiumoksiidi (Nb2O5) pihustamise sihtmärk

  Meie nioobiumoksiidi sihtmärke toodetakse täiustatud vaakum-kuumpressimise, kuumisostaatpressimise, külmpressimise paagutamise ja termilise pihustamise protsesside abil. Meie toodete hulka...

  Rohkem
• Nikkeloksiidi (NiO) pihustamise sihtmärk

  NiO sihtmärk on materjal, mida kasutatakse õhukese kile kasvutehnoloogiates, nagu füüsiline aurustamine-sadestamine (PVD) ja keemiline aurustamine-sadestamine (CVD). Need tehnoloogiad mängivad...

  Rohkem
• Ränikarbiidi (SiC) pihustussihtmärk

  Selles jaotises käsitletakse üksikasjalikult ränikarbiidi sihtmärkide põhiomadusi, alates selle keemilistest ja füüsikalistest omadustest, valmistamismeetoditest kuni kvaliteedi hindamise...

  Rohkem
• Ränimonooksiidi (SiO) pihustussihtmärk

  Ränimonooksiid on anorgaaniline ühend keemilise valemiga SiO. See on toatemperatuuril ja rõhul mustpruuni kuni lössi värvi amorfne pulber.

  Rohkem
• Alumiiniumoksiidi (Al2O3) pihustamise sihtmärk

  Alumiiniumoksiidi sihtmaterjal, see kõrge puhtusastmega ja suure tihedusega keraamiline materjal, ei ole mitte ainult suurepärase stabiilsusega, vaid talub ka äärmuslikke termilisi keskkondi. See...

  Rohkem
• Alumiiniumnitriidi (AlN) pihustussihtmärk

  Alumiiniumnitriidi pihustussihtmärki võib nimetada ka kõrge puhtusastmega alumiiniumnitriidiks, õhukese kile sadestamise materjaliks, pooljuhtide tööstuse sihtmärgiks, AlN pihustussihtmärgiks,...

  Rohkem