Toodete kirjeldus
Vase pihustusobjektil on samad omadused kui metallil vasel (Cu). Vask on keemiline element sümboliga Cu (ladina keelest: cuprum) ja aatomnumbriga 29. See on pehme, tempermalmist ja plastiline metall, millel on väga kõrge termiline ja elektriline tugevus. juhtivus. Värskelt paljastatud puhas vask on roosakas-oranž. Vaske kasutatakse soojus- ja elektrijuhina, ehitusmaterjalina ja mitmesuguste metallisulamite koostisosana. Vase pihustamise sihtmärki toodetakse sulatustehnoloogia abil, seda kasutatakse laialdaselt pooljuhtide, dekoratiivkatete ja täiustatud pakkimisväljade jaoks.
Meie vase pihustamise sihtmärk puhtusega 99,9% ~ 99,9999% ja madalaim hapnikusisaldus võib olla<1ppm, it is mainly used for display screen and touch screen wiring and protective film, solar light absorbing layer, semiconductor wiring, etc. We not only produce planar copper sputtering targets (maximum G8.5 generation), but also copper rotary targets, which are mainly used for the touch screen industry. Since it is difficult to break the grain, we can only process with very large deformation and control the growth of twins to achieve a fine and uniform microstructure, which ensure a lower erosion rate and sensitivity of the formation of particles during sputtering.
Nimi |
Metallist vase nikli sulamist graanulid |
Puhtus |
99.5%-99.99% |
Suurus |
1-10mm,10x10x10mm,D3x3mm,D6x6mm,2tolline,3tolline, vastavalt soovile |
Sümbol |
Cu |
Proportsioon |
Cu/Ni: 90/10 massiprotsenti; CuNi55/45 massiprotsenti |
Sulamispunkt |
1890 |
Kuju |
Tasapinnaline sihtmärk, pöörlev sihtmärk. Pelletid, tükk, |
Rakendus |
Katsematerjalid, aurustusmaterjalid, PVD-kilekate jne |
Kuum tags: vase (cu) graanulite, Hiina vase (cu) graanulite tarnijad, tehas